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半導(dǎo)體鍍層厚度檢測(cè)分析儀 是專為半導(dǎo)體行業(yè)打造的精密檢測(cè)設(shè)備。它運(yùn)用先進(jìn)的檢測(cè)技術(shù)，如X射線熒光光譜或橢偏測(cè)量等，能以高的精度，快速、無損地測(cè)量半導(dǎo)體芯片及器件上各類鍍層厚度。儀器具備高分辨率和良好的重復(fù)性，可精準(zhǔn)捕捉微小厚度變化。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、研發(fā)等環(huán)節(jié)，助力把控產(chǎn)品質(zhì)量，提升生產(chǎn)良率與性能穩(wěn)定性。

高精度鍍層測(cè)厚儀 X射線熒光法（XRF）測(cè)厚儀通過高能X射線激發(fā)鍍層產(chǎn)生特征熒光，分析信號(hào)強(qiáng)度計(jì)算厚度，實(shí)現(xiàn)無損檢測(cè)。支持多層鍍層解析及成分分析，精度高，適用于電子、汽車、裝飾鍍層等領(lǐng)域。儀器配備SDD探測(cè)器與真空模塊，可測(cè)輕元素及超薄鍍層。

X射線熒光膜厚儀 是一種用于測(cè)量薄膜厚度的儀器。它利用X射線熒光原理，可以測(cè)量金屬、合金、陶瓷等各種材料的鍍層厚度。這種儀器具有非破壞性、高效、高精度等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、表面工程等領(lǐng)域。

能量色散X射線熒光分析儀測(cè)試電鍍膜厚 電鍍膜厚測(cè)試儀是一種用于測(cè)量金屬表面涂層膜厚度的專業(yè)儀器，廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，如航空航天、汽車、電子、醫(yī)藥、鋼鐵等行業(yè)。

多毛細(xì)管配置X射線熒光測(cè)厚儀 技術(shù)服務(wù)的響應(yīng)期限：提供好的技術(shù)服務(wù)，在接到用戶故障信息后，4小時(shí)內(nèi)響應(yīng)；如有必要，12～72個(gè)小時(shí)內(nèi)派人上門維修和排除故障。 5） 非乙方產(chǎn)品自身故障所造成的現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)服務(wù)（如增加測(cè)試功能和數(shù)據(jù)校正等），乙方將按技術(shù)服務(wù)條款收取相關(guān)費(fèi)用。由甲方人為造成的損傷不在上述保修條款中，具體事例雙方協(xié)商解決。

電鍍件鍍層厚度檢測(cè)儀 檢測(cè)電鍍層厚度的方法有很多。根據(jù)檢測(cè)方法的原理可以分為物理法和化學(xué)法兩大類?；瘜W(xué)法有溶解法、計(jì)時(shí)流液法、電量法等；物理法有直接測(cè)量法、質(zhì)量法、磁性法、β射線反射法、X射線熒光法、多相顯微鏡法、輪廓儀法等。

X射線光譜法測(cè)試電鍍層儀器 我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長(zhǎng)色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計(jì)（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、氣相質(zhì)譜儀（GC-MS）、液相色譜儀（LC）、液相質(zhì)譜儀（LC-MS）等。

膜厚測(cè)試儀測(cè)量電鍍層厚度 技術(shù)指標(biāo)： 1.1 分析元素范圍：S-U 1.2 同時(shí)可分析24個(gè)元素，五層鍍層以上 1.3 分析厚度檢出限最高達(dá)0.005μm 1.4 定位精度：0.02mm 1.5 測(cè)量時(shí)間：5s以上 1.6 計(jì)數(shù)率：0-8000cps 1.7 Z軸升降范圍：0-140mm 1.8 圖像聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)，可編程，可實(shí)現(xiàn)單點(diǎn)，多點(diǎn)，網(wǎng)格多種控制